ASML predstavuje revolučný svetelný zdroj, čipy budú efektívnejšie

ASML, ako jediný komerčný výrobca strojov pre extrémnu ultrafialovú litografiu, oznámil významný pokrok vo výrobe čipov. Nový svetelný zdroj s výkonom 1 000 wattov, vyvinutý v kalifornskom San Diegu, je pripravený na komerčné nasadenie. Tento systém umožní zvýšiť produkciu čipov na každom stroji do roku 2030 o 50 percent, čím sa počet spracovaných kremíkových doštičiek zvýši zo 220 na 330 kusov za hodinu.

Hlavný technológ ASML, Michael Purvis, označil tento úspech za stabilný systém, ktorý môže zásadne zmeniť výrobný proces. V súčasnosti je produkcia čipov kľúčová pre pokročilé technológie, vrátane umelej inteligencie. Zatiaľ čo USA a Holandsko sa snažia obmedziť vývoz týchto technológií do Číny, Peking investuje do vlastného výskumu, čo zvyšuje konkurenciu na globálnom trhu.

Zložitý proces generovania EUV svetla, ktorý zahŕňa prúd roztavených cínových kvapiek a masívny CO2 laser, bol vylepšený zdvojnásobením frekvencie výstrelov na 100 000 kvapiek za sekundu. Tento pokrok vedie k zníženiu času expozície potrebného na výrobu čipov, čo má priamy dopad na náklady a efektivitu výroby. Viceprezident ASML, Teun van Gogh, zdôraznil, že vyššia priepustnosť strojov prinesie nižšie náklady na výrobu pre zákazníkov ako TSMC, Intel a Samsung.

V roku 2026, keď dopyt po výpočtovom výkone pre umelú inteligenciu neustále rastie, je efektívna výroba pokročilých procesorov kľúčovou strategickou výhodou. ASML plánuje dosiahnuť výkon 1 500 wattov a predpokladá, že v nasledujúcej dekáde by mohol byť dosiahnutý výkon až 2 000 wattov. Očakáva sa, že tento pokrok urýchli prechod na pokročilejšie výrobné procesy, čo prinesie výkonnejšie smartfóny a energeticky úspornejšie dátové centrá.